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納米激光光刻系統(tǒng)是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結構緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結構及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產。該系列產品還可根據用戶特殊需求，提供定制設計和制造。

激光直寫技術采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。

納米激光直寫是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統(tǒng)，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結構和器件制造、小批量微納器件生產等。該系列包括L50、L100等不同型號，具有功能強大、維護簡單、加工分辨率高、支持多種刻寫模式、支持多種受體材料等特征。本系統(tǒng)在設計之初保留了充足的物理空間和硬件資源，以滿足后續(xù)功能升級換代的需求，使產品具有更長的生命周期