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HWN-P1500納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)為科研團(tuán)隊(duì)和加工平臺(tái)設(shè)計(jì)的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺(tái)的移動(dòng)范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號(hào)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、維護(hù)簡(jiǎn)單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結(jié)構(gòu)及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產(chǎn)。該系列產(chǎn)品還可根據(jù)用戶(hù)特殊需求，提供定制設(shè)計(jì)和制造。

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納米光電子設(shè)備采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫(xiě)僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料，極大地?cái)U(kuò)展了激光直寫(xiě)設(shè)備的應(yīng)用范圍。

新型納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫(xiě)僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料，極大地?cái)U(kuò)展了激光直寫(xiě)設(shè)備的應(yīng)用范圍。

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